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Structural analysis of HfO_1tn2 and HfSi_1tn2 ultra-thin films on Si(100) [Elektronische Ressource] : . a photoelectron diffraction study / vorgelegt von Christian Rolf Flüchter
127 pages

Structural analysis of HfO_1tn2 and HfSi_1tn2 ultra-thin films on Si(100) [Elektronische Ressource] : . a photoelectron diffraction study / vorgelegt von Christian Rolf Flüchter

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Physik

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Publié le 01 janvier 2008
Nombre de lectures 36
Poids de l'ouvrage 16 Mo

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