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Description

Niveau: Supérieur, Doctorat, Bac+8
N° d'ordre : 4422 École Doctorale Sciences Pour l'Ingénieur ULP – ENSAIS – ENGEES - URS THÈSE présentée pour obtenir le grade de Docteur de l'Université Louis Pasteur – Strasbourg I Discipline : Science de l'ingénieur (Spécialité : Physique des semi-conducteurs) par Assia BELAYACHI-FARID Contribution à l'étude du cuivre dans le silicium et d'une technique de caractérisation associée Soutenue le 28 novembre 2003 Membres du jury Directeur de thèse : Thomas HEISER, Professeur, ULP Strasbourg Rapporteur interne : Daniel MATHIOT, Professeur, ULP Strasbourg Rapporteur externe : Bernard PICHAUD, Professeur, Université Aix-Marseille III Rapporteur externe : Daniel BARBIER, Professeur, INSA, Lyon Examinateur : Bachir SEMMACHE, Docteur, JIPELEC, Montpellier CNRS - PHASE UPR 292

  • ulp de strasbourg

  • technique de caractérisation

  • science de l'ingénieur

  • membres du jury directeur de thèse

  • rapporteur interne


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Publié le 01 novembre 2003
Nombre de lectures 70
Langue Français
Poids de l'ouvrage 3 Mo

Extrait

N°d’ordre : 4422
École Doctorale Sciences Pour l’Ingénieur
ULP – ENSAIS – ENGEES - URS
THÈSE
présentée pour obtenir le grade de
Docteur de l’Université Louis Pasteur – Strasbourg I Discipline : Science de l’ingénieur (Spécialité : Physique des semi-conducteurs)
par
Assia BELAYACHI-FARID
Contribution à l’étude du cuivre dans le silicium et d’une technique de caractérisation associée
Soutenue le 28 novembre 2003
Membres du jury Directeur de thèseHEISER, Professeur, ULP Strasbourg: Thomas Rapporteur interneDaniel MATHIOT, Professeur, ULP Strasbourg : Rapporteur externePICHAUD, Professeur, Université Aix-Marseille III: Bernard Rapporteur externe: Daniel BARBIER, Professeur, INSA, Lyon Examinateur: Bachir SEMMACHE, Docteur, JIPELEC, Montpellier CNRS - PHASE UPR 292
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«Tout ce long tâtonnement, c’est la science. La science est l’asymptote de la vérité. Elle approche sans cesse et ne se touche jamais. »
Victor Hugo(William Shakespeare)
Amon cher époux A mes parent s A mes f rères et sœurs A t ous ceux qui me sont chers
Remerciement s
Ce travail a été effectué au laboratoire de PHysique et Application des SEmi-conducteurs (PHASE) au Centre National de la Recherche Scientifique de Strasbourg. Je tiens à remercier Monsieur Daniel Mathiot, Directeur de PHASE et Professeur à l’Université Louis Pasteur de Strasbourg, de m’avoir bien accueilli dans son laboratoire.
J’exprime ma profonde gratitude à l’ensemble des membres de jury qui ont bien accepté d’en faire partie. Leurs remarques ont été tout à fait enrichissantes.
Je tiens à remercier tout particulièrement Thomas Heiser, Professeur à l’Université Louis Pasteur de Strasbourg, qui a dirigé activement ce travail et a su me guider et me communiquer une partie de son savoir et de sa passion pour la recherche.
Ce travail n’aurait pu aboutir sans la collaboration de la société WACKER (Burghaussen, Allemagne) et la société JIPELEC (Montpellier) qui nous ont fournis respectivement les échantillons et l’équipement de travail (four rapide pour les recuits thermiques appareils électronique pour la méthode de mesure) nécessaires. Je tiens à remercier Messieurs A. Kempf, B. Semmache et S. Bourdais pour leur disponibilité et leurs conseils durant ce travail.
Je voudrai exprimer ma reconnaissance à l’ensemble du personnel du laboratoire PHASE pour sa disponibilité et les nombreux services rendus : M. Hage-Ali, A. Saloui, A. Mesli, J-C. Muller, J. Morel, J-P. Schunk, S. Barthe, J-M. Koebel, A. Focsa, Ch. Weymann, G. Westermann, M. Brutt, F. Dietrich, C. Eckert et N. Blanchetière, …
Je remercie également tous mes amis thésard et docteurs pour l’excellente ambiance et avec qui j’ai passé mes trois années de travail : M. Ayoub, A. Benatmane, E. Pihan, M. Ley, J. Boudaden, F. Lmai, A. Zerga …
Ce travail a été financé par la société WACKER (Burghaussen, Allemagne) et l’ADEME.
Finalement, j’adresse mes sincères remerciements pour mon cher époux B. FARID pour son aide, son encouragement et pour les nombreuses heures consacrées à la correction de ce manuscrit.
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