Molecular beam deposition (MBD) and characterisation of high-k material as alternative gate oxides for MOS-technology [Elektronische Ressource] / von Vanessa Capodieci

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• Publié par: universitat_der_bundeswehr_munchen
• Publié le: 01 janvier 2006
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• Langue: English
• Poids de l'ouvrage: 5 Mo

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