La lecture à portée de main
Découvre YouScribe en t'inscrivant gratuitement
Je m'inscrisDécouvre YouScribe en t'inscrivant gratuitement
Je m'inscrisDescription
Sujets
Informations
Publié par | Hermès - Editions Lavoisier |
Date de parution | 14 septembre 2011 |
Nombre de lectures | 49 |
EAN13 | 9782746241794 |
Langue | Français |
Poids de l'ouvrage | 21 Mo |
Informations légales : prix de location à la page 0,0900€. Cette information est donnée uniquement à titre indicatif conformément à la législation en vigueur.
Extrait
Traitement des puces électroniques et nouveaux procédés d’interconnexion
© LAVOISIER, 2011
LAVOISIER
11, rue Lavoisier
75008 Paris
www.hermes-science.com
www.lavoisier.fr
ISBN 978-2-7462-2085-0
Le Code de la propriété intellectuelle n'autorisant, aux termes de l'article L. 122-5, d'une part,
que les "copies ou reproductions strictement réservées à l'usage privé du copiste et non
destinées à une utilisation collective" et, d'autre part, que les analyses et les courtes citations
dans un but d'exemple et d'illustration, "toute représentation ou reproduction intégrale, ou
partielle, faite sans le consentement de l'auteur ou de ses ayants droit ou ayants cause, est
illicite" (article L. 122-4). Cette représentation ou reproduction, par quelque procédé que ce
soit, constituerait donc une contrefaçon sanctionnée par les articles L. 335-2 et suivants du
Code de la propriété intellectuelle.
Tous les noms de sociétés ou de produits cités dans cet ouvrage sont utilisés à des fins
d’identification et sont des marques de leurs détenteurs respectifs.
Printed and bound by CPI Group (UK) Ltd, Croydon, CR0 4YY, September 2011.
Traitement des puces
électroniques
et nouveaux procédés
d’interconnexion
sous la direction de
Gilles Poupon
Il a été tiré de cet ouvrage
25 exemplaires hors commerce réservés
aux membres du comité scientifique,
aux auteurs et à l’éditeur
numérotés de 1 à 25 Traitement des puces électroniques
et nouveaux procédés d’interconnexion
sous la direction de Gilles Poupon
fait partie de la série ELECTRONIQUE ET MICROÉLECTRONIQUE
dirigée par Robert Baptist et Daniel Pasquet
TRAITE EGEM
ELECTRONIQUE – GENIE ELECTRIQUE – MICROSYSTEMES
Le traité Electronique, Génie Electrique, Microsystèmes répond au besoin de
disposer d’un ensemble de connaissances, méthodes et outils nécessaires à la
maîtrise de la conception, de la fabrication et de l’utilisation des composants,
circuits et systèmes utilisant l’électricité, l’optique et l’électronique comme
support.
Conçu et organisé dans un souci de relier étroitement les fondements
physiques et les méthodes théoriques au caractère industriel des disciplines
traitées, ce traité constitue un état de l’art structuré autour des quatre grands
domaines suivants :
Electronique et microélectronique
Optoélectronique
Génie électrique
Microsystèmes
Génie des procédés
Chaque ouvrage développe aussi bien les aspects fondamentaux
qu’expérimentaux du domaine qu’il étudie. Une classification des différents
articles contenus dans chacun, une bibliographie et un index détaillé
orientent le lecteur vers ses points d’intérêt immédiats : celui-ci dispose ainsi
d’un guide pour ses réflexions ou pour ses choix.
Les savoirs, théories et méthodes rassemblés dans chaque ouvrage ont été
choisis pour leur pertinence dans l’avancée des connaissances ou pour la
qualité des résultats obtenus.
Liste des auteurs
Stéphane BELLENGER Christophe KOPP
IPDIA CEA-LETI, Minatec
Caen Grenoble
Stéphane BERNABÉ Patrick LEDUC
CEA-LETI, Minatec CEA-LETI, Minatec
Grenoble Grenoble
Laurent DELLMAN Gilles POUPON
IBM CEA-LETI, Minatec
Zurich Grenoble
Suisse
Jean-Charles SOURIAU
Jean-Luc DIOT CEA-LETI, Minatec
Novapack Grenoble
Saint-Egrève
Aurélie THUAIRE
Franck DOSSEUL CEA-LETI, Minatec
ST Microelectronics Grenoble
Tours
Table des matières
Introduction ........................................ 17
PREMIÈRE PARTIE. Traitement des circuits
et des composants électroniques ........................... 21
Chapitre 1. Le traitement des puces au niveau
du substrat, amincissement et découpe ....................... 23
Stéphane BELLENGER
1.1. Introduction.................................... 23
1.2. Les processus d’amincissement ........................ 27
1.2.1. Principe de la rectification28
1.2.2. Les procédés de libération des contraintes après amincissement ... 33
1.2.2.1. L’amincissement chimique .................... 34
1.2.2.2. La gravure plasma ......................... 36
1.2.2.3. Le polissage mécano-chimique (CMP)
ou sec (dry polishing) ............................ 36
1.3. La séparation des puces ou sciage (wafer sawing) ............. 36
1.3.1. Le sciage mécanique ........................... 37
1.3.1.1. Les opérations de contrôle .................... 38
1.3.1.2. Les équipements .......................... 39
1.3.2. Autres procédés .............................. 41
1.3.3. Le Dicing Before Grinding (DBG)................... 43
1.4. Bibliographie ................................... 44
Chapitre 2. Les opérations de report sur substrat ................ 47
Stéphane BELLENGER et Jean-Luc DIOT
2.1. Introduction.................................... 47
2.2. Les différents substrats ............................. 49
10 Puces électroniques et nouveaux procédés d’interconnexion
2.2.1. Les substrats métalliques ........................ 49
2.2.2. Les substrats organiques : laminés et flex............... 51
2.2.3. Les substrats céramiques......................... 54
2.2.4. Les substrats silicium ........................... 56
2.3. Les opérations de die attach .......................... 57
2.3.1. Le report de puces sur substrat par brasure (solder) ......... 57
2.3.2. Le report de puces sur substrat par collage (glue) .......... 59
2.3.3. Le report de puces sur substrat par retournement
(flip chip ou flipping) ............................... 60
2.3.3.1. Procédé par refusion (bumps fusibles) ............. 61
2.3.3.2. Procédé par thermocompression ................. 62
2.3.3.3. Report par collage ......................... 63
2.3.4. Le report de puces sur substrat par empilage (stacked die) ..... 64
2.3.4.1. Structure pyramidale........................ 64
2.3.4.2. Structure non pyramidale ..................... 64
2.4. Principales séquences opératoires de die attach ou de flip chip ..... 66
2.4.1. Principes généraux ............................ 66
2.4.2. Principales opérations de contrôle ................... 68
2.4.3. Le mécanisme d’éjection des puces .................. 69
2.4.4. Les outils de préhension des puces ................... 71
2.4.5. Les propriétés des colles ......................... 72
2.5. Les propriétés des pâtes à braser ....................... 74
2.6. Bibliographie ................................... 74
Chapitre 3. Généralités sur les procédés d’interconnexion .......... 75
Gilles POUPON et Stéphane BELLENGER
3.1. Introduction.................................... 75
3.2. Principaux procédés d’interconnexion .................... 76
3.3. Le câblage filaire ................................ 77
3.3.1. Le ball bonding .............................. 77
3.3.2. Le wedge bonding ............................. 78
3.3.3. Quelle technique choisir ? ........................ 79
3.3.4. Le fil79
3.3.4.1. Nature des fils............................ 80
3.3.3.2. Autres critères de choix ...................... 81
3.4. Evolution du wire bonding en regard
des nouvelles évolutions technologiques ..................... 81
3.4.1. L’interconnexion faible pas ....................... 82
3.4.2. Le stacking des puces .......................... 82
3.5. Bibliographie ................................... 83
Table des matières 11
Chapitre 4. Protection et finition des composants ................ 85
Stéphane BELLENGER
4.1. Le back end : une multitude de procédés en fonction
des boitiers traités ................................... 85
4.2. Les opérations de protection .......................... 87
4.2.1. L’encapsulation des composants .................... 87
4.2.2. Le moulage par transfert ......................... 88
4.2.2.1. Les résines de moulage ...................... 92
4.2.2.2. Le cycle de moulage ........................ 94
4.2.2.3. Remarques sur le moule et la presse............... 96
4.2.3. Le moulage par compression97
4.2.4. Cas particuliers d’enrobage des composants ............. 98
4.2.4.1. L’underfilling ............................ 98
4.2.4.2. Le glob top ............................. 100
4.2.4.3. Le dam and fill ........................... 101
4.2.5. Le retrait des bavures de résine (deflashing) ............. 102
4.2.5.1. L’ébavurage mécanique ...................... 103
4.2.5.2. L’ébavurage combiné (chimique ou électrochimique
et mécanique) ................................. 104
4.3. La finition des composants ........................... 105
4.3.1. L’étamage des connexions........................ 106
4.3.1.1. L’étamage électrolytique ..................... 107
4.3.2. Le marquage des composants ...................... 110
4.3.2.1. Opération de marquage effectuée avant un test électrique ... 111
4.3.2.2. Opération de marquage effectuée après le test électrique .... 111
4.3.3. La séparation des boitiers et la finition des connexions ....... 112
4.3.3.1. Séparation des boitiers par découpe mécanique ........ 112
4.3.3.2. La séparation des boitiers par sciage mécanique 116
4.3.4. Cas particulier du billage des BGA .................. 118
4.4. Les boitiers leadless : une simplification pour tous ............ 120
4.4.1. Le moulage en nappe........................... 121
4.4.2. Elimination des procédés d’ébavurage et d’étamage ........ 122
4.4.3. Simplification du procédé de séparation, suppression
du cambrage .................................... 123
4.5. Bibliographie ................................... 123
DEUXIÈME PARTIE. Interconnexions flip chip ................... 125
Chapitre 5. Les interconnexions flip