Canon va acquérir les activités semi-conducteurs de Molecular Imprints

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Canon va acquérir les activités semi-Canon va acquérir les activités semi- conducteurs de Molecular Imprints PR Newswire AUSTIN, Texas, 13 février 2014 -- Cette fusion créera une entreprise indépendante qui se concentrera sur le renforcement des opportunités pour le marché de la nanotechnologie Molecular Imprints Inc. (MII), le leader du marché et de la technologie pour les systèmes et les solutions de nanostructuration, a annoncé aujourd'hui qu'elle avait signé un accord visant à vendre à la société Canon Inc. de Tokyo, au Japon, ses activités d'équipement de lithographie par nano-impression pour les semi-conducteurs. Aujourd'hui, Canon fabrique et commercialise des plates-formes de photolithographie pour excimère KrF et illumination de ligne-i. C'est en 2004 que Canon a commencé à mener des recherches sur la technologie de nano- impression en vue d'entrer sur le marché des équipements de lithographie pour la structuration haute résolution de pointe. Depuis 2009, la société mène des activités conjointes de développement avec MII et un grand fabricant de semi-conducteurs à des fins de fabrication en série en ayant recours à la technologie Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) de MII. « Après avoir instauré une alliance commerciale avec Canon il y a quatre ans afin de proposer au secteur des semi-conducteurs une solution technologique de nanolithographie à faible coût, je suis heureux de constater les énormes progrès que nous avons réalisés par rapport à cet objectif.

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• Publié le: 13 février 2014
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Canon va acquérir les activités semi-conducteurs de Molecular Imprints

PR Newswire

AUSTIN, Texas, 13 février 2014

-- Cette fusion créera une entreprise indépendante qui se concentrera sur le renforcement des opportunités pour le marché de la nanotechnologie

Molecular Imprints Inc. (MII), le leader du marché et de la technologie pour les systèmes et les solutions de nanostructuration, a annoncé aujourd'hui qu'elle avait signé un accord visant à vendre à la société Canon Inc. de Tokyo, au Japon, ses activités d'équipement de lithographie par nano-impression pour les semi-conducteurs. Aujourd'hui, Canon fabrique et commercialise des plates-formes de photolithographie pour excimère KrF et illumination de ligne-i. C'est en 2004 que Canon a commencé à mener des recherches sur la technologie de nano-impression en vue d'entrer sur le marché des équipements de lithographie pour la structuration haute résolution de pointe. Depuis 2009, la société mène des activités conjointes de développement avec MII et un grand fabricant de semi-conducteurs à des fins de fabrication en série en ayant recours à la technologie Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) de MII.

« Après avoir instauré une alliance commerciale avec Canon il y a quatre ans afin de proposer au secteur des semi-conducteurs une solution technologique de nanolithographie à faible coût, je suis heureux de constater les énormes progrès que nous avons réalisés par rapport à cet objectif. En raison de cette réussite, la fusion était la prochaine étape naturelle pour nos sociétés », explique Mark Melliar-Smith, PDG de Molecular Imprints.

En 2011, Canon a lancé la phase IV de son « Excellent Global Corporation Plan », dont l'une des stratégies portait sur le développement des activités grâce à une diversification mondialisée. « L'acquisition de MII renforcera notre service "Industrie et autres" », selon le directeur technologique de Canon, le docteur Toshiaki Ikoma. « Nous nous réjouissons de cette opportunité innovante de fabrication de semi-conducteurs et nous sommes impatients de créer un centre de développement technologie de pointe à Austin, au Texas ».

Molecular Imprints a été créée sur la base d'une technologie élaborée à l'Université du Texas à Austin (UT) par les professeurs SV Sreenivasan et Grant Willson. Au cours de ces dernières années, Molecular Imprints a collaboré avec Canon et d'autres partenaires d'infrastructure dans le domaine des semi-conducteurs afin de permettre au secteur de conserver la loi de Moore en faisant fi des limitations de résolution et de la charge croissante des coûts de la photolithographie et de la lithographie EUV. La première utilisation de J-FIL à des fins de production est prévue pour une mémoire FLASH évoluée au cours des deux prochaines années.

S'il permet à Canon de faire entrer J-FIL dans la fabrication de semi-conducteurs de pointe, cet accord de fusion permet également la création d'une nouvelle entreprise qui conservera son nom « Molecular Imprints » original et qui aura l'avantage de pouvoir démarrer rapidement en conservant son personnel essentiel ainsi que les droits détenus conjointement avec Canon pour le portefeuille de propriété intellectuelle de MII, en même temps que plusieurs plates-formes systèmes qui sont conçues pour répondre au besoin croissant de la nanostructuration pour l'électronique grand public et les applications biomédicales. « Nous nous réjouissons à l'idée de proposer une solution de fabrication nanométrique à faible coût aux fabricants d'écrans et de disques durs, au secteur de la biotechnologie et à d'autres marchés émergents », explique David Gino, directeur opérationnel de Molecular Imprints. M. Gino deviendra le PDG du nouveau Molecular Imprints une fois que l'entreprise sera créée avant la conclusion de l'accord de fusion avec Canon.

La fusion devrait être complétée d'ici à avril 2014 après l'accord réglementaire des actionnaires et des pouvoirs publics. 

A propos de Molecular Imprints, Inc.

Molecular Imprints, Inc. (MII) est le leader technologique pour les systèmes et les solutions de nanostructuration à haute résolution et à faible coût de propriété. MII s'est fondée sur sa technologie innovante Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) pour devenir le leader technologique mondial des solutions de structuration à grand volume pour les dispositifs à semi-conducteur, tout en fournissant des capacités aux marchés émergents des écrans, des disques durs et de la biotechnologie. MII permet une nanostructuration en offrant une solution de lithographie par nano-impression qui est abordable et extensible à des dimensions inférieures à 20 nanomètres.

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Paul Hofemann
Molecular Imprints Inc.
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